반도체 제조 공정에서 중요한 역할을 하는 샤워헤드는 CVD 설비나 dry Etchi 설비 등과 같은 프로세스 챔버 내에서 사용되는 핵심 부품입니다. 이 부품은 웨이퍼의 상부나 하부에 설치되어 전극의 역할을 하며, 동시에 프로세스 가스를 분사하고 공정 온도를 제어하여 증착 및 식각 공정을 수행합니다. 특히, 균일하고 정확한 가스 분사는 반도체 제조 공정에서 제품의 품질과 생산성에 큰 영향을 미칩니다.

반도체 샤워헤드는 다음과 같은 특징을 가지고 있습니다:

초정밀 가공 기술력: 인성시스템은 최첨단 가공 기술을 보유하고 있어 샤워헤드의 구멍 치수를 매우 정밀하게 제어할 수 있습니다.

균일한 구멍 치수: 우리의 샤워헤드는 각 구멍의 치수를 매우 균일하게 유지하여 균일한 가스 분사를 보장합니다.

우수한 조도: 샤워헤드의 표면 처리 기술을 통해 우수한 조도를 유지하여 고객이 원하는 프로세스 환경을 구성할 수 있습니다.

고객의 요구를 충족하는 설계: 우리는 고객의 요구를 반영하여 다양한 디자인의 샤워헤드를 제공합니다. 이는 고객의 프로세스 요구사항에 적합한 솔루션을 제공하는 데 도움이 됩니다.

한백정밀의 샤워헤드는 정밀하고 균일한 구멍 치수를 제공하며 우수한 조도를 유지합니다. 이를 통해 고객은 고품질의 반도체 제품을 안정적으로 생산할 수 있습니다.

(본 사진은 실제제품과는 다른 가상형 사진입니다)